多形态光刻与刻蚀工艺虚拟仿真实验VR版

注意：本实验为VR版虚拟仿真实验，需下载后进行硬件适配，除需要VR头盔外，还需要电脑配置：CPU：i5-7400-3.0GHz-4核4线程及以上；内存：8GB及以上；硬盘：100GB及以上；显卡：NVIDIA GeForce GTX 960及以上；显存：2G及以上；显示器：16:9 分辨率1280*720及以上；网络带宽：10Mbps及以上；操作系统：Windows 7及以上

 

 

 

实验步骤介绍：

1. 系统模拟出以下实验步骤：
2. 使用氧化腐蚀机清洗硅片。
3. 将硅片放入甩干机中甩干。
4. 甩干期间，打开光刻机电源，预开启光刻机。
5. 用浸有酒精的无尘布清洁光刻机承片台、轨道和升降架。
6. 检查光刻机的主要参数，并记录。
7. 硅片喷涂光刻胶:①真空吸附硅片。②将光刻胶喷洒到硅片表面。③加速旋转托盘，直至达到3000～6000 rpm。④保持5～10s，0.5～1μm。
8. 使用光刻机进行硅片的光刻操作。
9. 使用显影机进行显影。
10. 使用氧化腐蚀机进行刻蚀。
11. 使用氧化层去胶机进行去胶。